ຜະລິດຕະພັນ

ສິນຄ້າ ໃໝ່

ເຄື່ອງຂັດ

ເຄື່ອງຂັດຂັດເປັນອຸປະກອນທີ່ຊ່ວຍປັບປຸງຄວາມຫຍາບຂອງພື້ນຜິວຂອງຜະລິດຕະພັນ, ແລະຍັງສາມາດກໍາຈັດໂຄງສ້າງພື້ນຜິວ, ຮອຍຂີດຂ່ວນ, ຈຸດ, ປອກເປືອກສີສົ້ມ, ແລະອື່ນໆ. ມັນມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການຂັດກະຈົກຂອງສະແຕນເລດ, ໂລຫະປະສົມອາລູມິນຽມ, ເຫຼັກ Tungsten, ຊີມັງ carbide ແລະວັດສະດຸໂລຫະອື່ນໆ, ແລະຍັງຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອປັບປຸງລະດັບຄວາມລຽບຂອງວັດສະດຸທີ່ບໍ່ແມ່ນໂລຫະເຊັ່ນ: silicon wafer, sapphire, silicon carbide, lithium tantalate, ແກ້ວ optical.

ເຄື່ອງຂັດແມ່ນໃຊ້ຫຼັງຈາກການຂັດຫຍາບຂອງຜະລິດຕະພັນ, ແລະມັນເປັນຂະບວນການຮັກສາພື້ນຜິວສຸດທ້າຍຂອງຜະລິດຕະພັນ. ຫຼັງຈາກການປຸງແຕ່ງສໍາເລັດ, ມັນສາມາດເປັນພື້ນຜິວກະຈົກຫຼືຫນ້າກະຈົກຍ່ອຍ. ການສໍາເລັດຮູບແມ່ນຢູ່ລະຫວ່າງ 0.02um-0.001um.

ມາດຕະຖານສໍາລັບການວັດແທກຄວາມຖືກຕ້ອງຂອງເຄື່ອງ olishing ແມ່ນຄວາມຫຍາບຄາຍ. ຄວາມຫຍາບຂອງເຄື່ອງຂັດທີ່ຜະລິດໂດຍ Tengyu ສາມາດບັນລຸເຖິງ 1nm!

Tengyu ເປັນຜູ້ຜະລິດເຄື່ອງຂັດຈີນ, ອຸປະກອນແລະເຄື່ອງບໍລິໂພກທັງຫມົດແມ່ນໂຮງງານຜະລິດໂດຍກົງ, ປະຫຍັດຄ່າໃຊ້ຈ່າຍ! ຖ້າລູກຄ້າມີຄວາມຕ້ອງການ, ພວກເຮົາສາມາດເກັບຕົວຢ່າງໄດ້ໂດຍບໍ່ເສຍຄ່າ, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນເຂົ້າໄປໃນການເຈລະຈາການຈັດຊື້ຫຼັງຈາກຕົວຢ່າງປະສົບຜົນສໍາເລັດ. Tengyu ມີກອງປະຊຸມການຜະລິດຂອງ 6,000 ຕາແມັດ, ພື້ນທີ່ຫ້ອງການຂອງ 2,000 ຕາແມັດ, 20 ຫຼັງຈາກການຂາຍແລະທີມງານດ້ານວິຊາການ, ແລະ 50 ພະນັກງານການຜະລິດ, ເຊິ່ງສາມາດສະຫນອງລູກຄ້າດ້ວຍການສະຫນັບສະຫນູນດ້ານວິຊາການທີ່ດີ.

Double Side Polisher
TY-13-6B Double Side Polisher grind, lapping & polish ທັງສອງຫນ້າຮາບພຽງຂອງອົງປະກອບໃນເວລາດຽວກັນ. ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງສໍາລັບ substrate Sapphire, Silicon Wafers, Filter Glass, optical glass, Sapphire Watch Glass, aluminium, copper, stainless ເຫຼັກກ້າ, ເຫລັກຫມີ, ເຊລາມິກ, ໄປເຊຍກັນ quartz, ວັດສະດຸອື່ນໆ, ແລະອື່ນໆ.
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More
Mirror Finish Polishing Machine ສໍາລັບສະແຕນເລດ
ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການຂັດຫນ້າດິນຂອງ workpieces ຂະຫນາດໃຫຍ່ທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ. ເຊັ່ນ: ແຜ່ນພາດສະຕິກ, ເຊລາມິກ, ໂລຫະປະສົມ nickel, ແຜ່ນໂລຫະປະສົມສັງກະສີ, ແຜ່ນເຫຼັກ tungsten, ໂລຫະປະສົມອາລູມິນຽມ, ສະແຕນເລດ, ກໍລະນີເຄື່ອງຈັກ, ແຜ່ນນໍາພາແສງສະຫວ່າງ, ແລະອື່ນໆ.
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More
16B Double-Sided Lapping / ເຄື່ອງຂັດ
ສິ່ງທີ່ເຄື່ອງເຮັດຝາອັດສອງດ້ານສາມາດເຮັດໄດ້ï¼ະໃຊ້ໄດ້ກັບວັດສະດຸບາງໆທີ່ແຂງ ແລະ ເສື່ອມເຊັ່ນ: ແຫວນປະທັບຕາໂລຫະ, ແກບໄພ້, SiC, ເຊລາມິກ, ການຂັດແກ້ວ ແລະຂະບວນການຂັດເງົາ, ການຄວບຄຸມຄວາມກົດດັນສີ່ຂັ້ນຕອນ, ເພື່ອຫຼີກເວັ້ນການເສຍຫາຍຕໍ່ການປຸງແຕ່ງວັດສະດຸ.
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More
ຂັດຂ້າງດຽວ
ເຄື່ອງຂັດດ້ານດຽວຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງສໍາລັບການຂັດດ້ານດຽວແລະຂັດຂອງອາລູມິນຽມເຊລາມິກ, Zirconia (PSZ) Ceramics ï¼¹SiC Ceramics, Optical Glass Wafers, Quartz Wafers, Silicon Wafers, Germanium wafers, ແຫວນປະທັບຕາ, ສະແຕນເລດ, ໂລຫະປະສົມ Titanium, ຊີມັງ Carbide, Tungsten Steel ແລະອື່ນໆ.
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More
Semiconductor Silicon Wafer ເຄື່ອງຂັດ
ເຄື່ອງຂັດ Semiconductor Silicon Wafer ສາມາດເຮັດໄດ້ແນວໃດ? ມັນຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບ: â¢ silicon wafer â ¢ lithium tantalate â, ¢ ເຊລາມິກ substrate â ¢ Silicon carbide wafer ແລະວັດສະດຸ semiconductor ອື່ນໆ
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More
ເຄື່ອງຂັດຂະຫນາດນ້ອຍສໍາລັບການທົດລອງ
ເຄື່ອງຂັດຂະຫນາດນ້ອຍສໍາລັບການທົດລອງໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນ substrates sapphire LED, wafers ແກ້ວ optical, ceramics, wafers quartz, molds, ປ່ຽງ compressor, ປະທັບຕາບົບໄຮໂດຼລິກ, ແຜ່ນຄູ່ມືແສງສະຫວ່າງ, ກະດູກ optical skewer.
ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ More