Silicon Carbide Wafer Thinning Machine ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບການບາງໆຂອງວັດສະດຸ substrate ເຊັ່ນ silicon wafer, gallium arsenide, silicon carbide ceramics, zirconia ceramics, graphite, lithium tantalate ແລະອື່ນໆ.
ເຄື່ອງຕັດ wafer ແນວຕັ້ງທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງສາມາດ grind ວັດສະດຸ semiconductor ລຸ້ນທີສາມເຊັ່ນ SiC, GaN, GaAs, Si, ZnO. ຊຸດ DL-GSD ແມ່ນເຄື່ອງປັ່ນປ່ວນທີ່ຜະລິດເອງໃນປະເທດຈີນ, ແລະປະສິດທິພາບຂອງມັນໄດ້ບັນລຸມາດຕະຖານໂລກ.